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前述兩種解決方案均采用CF法蘭，可應用于超高真空系統中。然而在半導體制造及相關設備領域，高真空環境已經能夠滿足使用需求。例如，光刻機、薄膜沉積設備和刻蝕設備的內部環境均為高真空。這種情況下，采用KF、ISO以及其他定制的O圈密封法蘭更具經濟效益。

KF法蘭是一種小尺寸的快卸法蘭，適用于真空度可達10^-8 mbar的系統，密封材料通常包括Viton、Buna、Silicone、EPDM和鋁合金等，主體材質通常為不銹鋼。KF法蘭結構包括法蘭、卡箍、O圈密封圈和中心定位環，利用卡箍將這些組件固定，如下圖所示。

KF法蘭連接方式

（1：CF/KF轉接法蘭；2：卡箍；3：中心定位環；4：O形密封圈；5：KF轉接法蘭）

KF法蘭的優點在于結構簡單、使用方便，易于安裝和拆卸。但KF法蘭的適用管道口徑較小，最大直徑為50mm，如果需要更大口徑的法蘭，可以選擇ISO法蘭。

ISO法蘭的常用直徑為63mm和100mm，最大直徑可達630mm，常見形式包括ISO-K和ISO-F。ISO法蘭的真空度、密封材質及主體材質均與KF法蘭相同，但相關組件略有不同。

ISO-K法蘭結構包括法蘭、密封圈和中心定位環，使用卡鉗進行固定，如下圖所示。

ISO-F法蘭結構包括法蘭、密封圈和中心定位環，采用螺栓進行固定，如下圖所示。

ISO法蘭也可提供鋁制法蘭，以減輕法蘭重量。該類型法蘭采用Viton密封，主體材質為鋁合金6061-T6，可與其他ISO法蘭和組件兼容。但相比不銹鋼產品，其頸部焊接線更厚。

無論是KF法蘭還是ISO法蘭，我們均可提供完整的產品系統，并可根據您的需求定制O圈密封法蘭。

三同軸浮動屏蔽真空饋通定制O圈密封法蘭

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